Prinano宣称其纳米压印工艺无需深紫外光刻器具即可分娩光子芯片，同期大幅裁汰资本。

一家中国初创公司宣称在光子芯片制造范围取得摧毁，其在不依赖传统深紫外（DUV）光刻系统的情况下，得胜分娩出8英寸光学芯片晶圆。

总部位于杭州的Prinano暗意，该公司使用其纳米压印光刻（NIL）技巧，得胜考据了光子芯片的量产。这种制造法式通过物理情势将纳米级图案压印到晶圆上，而非通过光学系统进行投影。

据该公司先容，该工艺是与深圳利特拉科技（Shenzhen Litra Technology）调解完成的，并使用了后者的PL-AS真空气垫纳米压印光刻拓荒。Prinano称，该法式“齐备躲避”了对DUV光刻器具的需求，同期将制形资本降至传统决议的约十分之一。

这一音问发布之际，由于赢得荷兰供应商ASML先进光刻系统的渠说念受限，中国芯片制造商仍在合手续寻求替代制造技巧。

光子芯片应用于光通讯、传感系统、激光雷达和数据中心等范围。与传统的电子芯片不同，它们哄骗光而非电信号来处分信息。

Prinano暗意，其技巧扶植光子芯片的晶圆级分娩，并可应用于基于砷化镓、磷化铟和硅光子技巧的光通讯及传感拓荒。

该公司称，其PL-AS拓荒具备亚10纳米线宽分袂率以及晶圆级压力放手智商。但是，并未线路分娩量、制造良率或客户发货数据。

纳米压印光刻始终以来被视为传统光学光刻的潜在替代决议，开元棋牌app2026中国最新版官方平台下载因为它无需粗野的投影光学系统即可制造极其玄虚的特征。该技巧于20世纪90年代由普林斯顿大学施展周郁（Stephen Y. Chou）首创。

Prinano创始东说念主葛海雄曾师从周郁，并于2017年创立公司，致力于于开发纳米压印拓荒、材料和制造工艺。

连年来，跟着芯片制造商寻求更低资本的制造法式，业界对纳米压印光刻的酷爱有所加多。2023年，佳能推出了生意化的纳米压印光刻系统，并将其动作某些先进光刻器具的替代决议加以奉行。

尽管远景看好，但分析师们质疑该技巧能否达到大范围半导体制造所需的朦拢量和良率。

探讨公司SemiAnalysis此前指出，天然纳米压印光刻拓荒可能比先进光刻器具更低廉，但举座经济性取决于颓势率、模板分娩、朦拢量和工艺集成等要素。

Prinano的公告专注于光子芯片而非先进逻辑处分器，这一区别可能使其生意化更容易达成。光子器件时常依赖光栅、波导和环形谐振器等叠加性纳米结构，这些结构极度适合基于压印的制造情势。

该公司暗意，该技巧已插足晶圆级分娩考据阶段，但对于良率、生意部署和制造范围的空闲考据数据尚未线路。

对于中国半导体产业而言，这一发扬突显了在赢得先进光刻拓荒仍受限的布景下，业界正合手续长途探索替代制造道路。

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